2012 ©
             ข้อมูลการเผยแพร่ผลงาน
การเผยแพร่ในรูปของบทความวารสารทางวิชาการ
ชื่อบทความ Enhancement of output power density in a modified polytetrafluoroethylene surface using a sequential O2/Ar plasma etching for triboelectric nanogenerator applications 
วัน/เดือน/ปี ที่ได้ตอบรับ 25 มีนาคม 2564 
วารสาร
     ชื่อวารสาร Nano Research 
     มาตรฐานของวารสาร SCOPUS 
     หน่วยงานเจ้าของวารสาร springer 
     ISBN/ISSN  
     ปีที่  
     ฉบับที่  
     เดือน
     ปี พ.ศ. ที่พิมพ์ 2564 
     หน้า  
     บทคัดย่อ In this work, the surface modification using a two-steps plasma etching has been developed for enhancing energy conversion performance in polytetrafluoroethylene (PTFE) triboelectric nanogenerator (TENG). Enhanced surface area by a powerful O2 and Ar bipolar pulse plasma etching without the use of CF4 gas has been demonstrated for the first time. TENG with modified surface PTFE using a sequential two-step O2/Ar plasma has a superior power density of 9.9 Wm-2, which is almost thirty times higher than a pristine PTFE TENG. The synergistic combination of high surface area and the presence of charge trapping sites due to chemical bond defects achieved from the use of a sequential O2/Ar plasma gives rise to the intensified triboelectric charge density and the power output enhancement of PTFE-based TENG. The effects of plasma species and plasma etching sequence on surface morphologies and surface chemical species are investigated by a field emission scanning electron microscopy (FESEM), atomic force microscopy (AFM), and X-ray photoelectron spectroscopy (XPS). The correlation of surface morphology, chemical structure, and TENG performance is elucidated. In addition, the applications of mechanical energy harvesting for lighting, charging capacitors, keyboard sensing and operating a portable calculator are demonstrated. 
     คำสำคัญ two-step plasma etching, O2 and Ar plasma, CF4 free, triboelectric nanogenerator, power output enhancement 
ผู้เขียน
597020089-4 นาย ธีระยุทธ ประดา [ผู้เขียนหลัก]
คณะวิทยาศาสตร์ ปริญญาเอก ภาคปกติ

การประเมินบทความ มีผู้ประเมินอิสระ 
สถานภาพการเผยแพร่ ได้รับการตอบรับให้ตีพิมพ์ 
วารสารมีการเผยแพร่ในระดับ นานาชาติ 
citation ไม่มี 
เป็นส่วนหนึ่งของวิทยานิพนธ์ เป็น 
แนบไฟล์
Citation 0