|
ข้อมูลการเผยแพร่ผลงาน
|
ชื่อบทความ |
Effect of Substrate Surface Roughening on the Capacitance and Cycling Stability of Ni(OH)2 Nanoarray Films |
วัน/เดือน/ปี ที่ได้ตอบรับ |
23 ตุลาคม 2562 |
วารสาร |
ชื่อวารสาร |
Scientific Reports |
มาตรฐานของวารสาร |
SCOPUS |
หน่วยงานเจ้าของวารสาร |
Springer Nature Limited |
ISBN/ISSN |
ISSN 2045-2322 |
ปีที่ |
9 |
ฉบับที่ |
9 |
เดือน |
|
ปี พ.ศ. ที่พิมพ์ |
2562 |
หน้า |
16877 |
บทคัดย่อ |
The effect of substrate surface roughening on the capacitance of Ni(OH)2/NiOOH nanowall array samples produced via chemical bath deposition for 2, 4, 6, 24 and 48 h on an as-received stainless steel substrate and the same substrate after sandblasting has been investigated. Symmetric cells were subjected to 120,000 charge-discharge cycles to access changes in their capacitance. Specific capacitances were derived from cyclic voltammetry and charge-discharge cycling under a three electrode setup. Substrate roughening significantly increases the capacitance of symmetric cells and film stability since film exfoliation does not occur to the same degree as on the as-received substrate. Interestingly, films deposited on a roughened substrate for 6, 24 and 48 h also exhibit self-recovery of capacitance, which could be related to an electrodissolution-electrodeposition effect. With the use of a roughened substrate, the thinnest film gives the highest specific capacitance, 1456 F g−1, whilst the thickest one shows the highest areal capacitance, 235 mF cm−2, after 20,000 cycles. These results reveal the promise of surface roughening toward increasing the capacitance and stability of Ni(OH)2/NiOOH films. |
คำสำคัญ |
Ni(OH)2 , nanowall , supercapacitor, substrate roughness |
ผู้เขียน |
|
การประเมินบทความ |
มีผู้ประเมินอิสระ |
สถานภาพการเผยแพร่ |
ตีพิมพ์แล้ว |
วารสารมีการเผยแพร่ในระดับ |
นานาชาติ |
citation |
ไม่มี |
เป็นส่วนหนึ่งของวิทยานิพนธ์ |
เป็น |
แนบไฟล์ |
|
Citation |
0
|
|
|
|
|
|
|