| ชื่อบทความ |
Spectroscopic Analyses of Sputtered Aluminum Oxide Films with Oxygen Plasma Treatments. |
| วัน/เดือน/ปี ที่ได้ตอบรับ |
18 กันยายน 2561 |
| วารสาร |
| ชื่อวารสาร |
Materials Science Forum |
| มาตรฐานของวารสาร |
SCOPUS |
| หน่วยงานเจ้าของวารสาร |
Science and Engineering Institute (SCIEI) |
| ISBN/ISSN |
doi:10.4028/www.scientific.net/MSF.947.96 |
| ปีที่ |
2018 |
| ฉบับที่ |
947 |
| เดือน |
|
| ปี พ.ศ. ที่พิมพ์ |
2561 |
| หน้า |
96-100 |
| บทคัดย่อ |
X-ray photoelectron spectroscopy (XPS) and Spectroscopic Ellipsometry (SE) were used
to analyse the effect of oxygen plasma treatment on properties of aluminum oxide thin films. The
aluminum oxide films were fabricated using a reactive sputtering system. The as-deposited films
were treated with oxygen plasma powered by an RF generator. During the plasma treatment, the
pressures were set at 1 x 10-1
to 1x 10-2 mbar, while the RF supplied powers at 100 W and 200 W. It
was observed that lower plasma powers and higher pressures resulted in smoother films. The O/Al
ratio of the films were found to decrease with increasing plasma powers and pressures. The
thickness and refractive index of the films were significantly affected by the oxygen plasma
treatment process, which could be related to the change in films’ packing density and the etching at
the surface.
|
| คำสำคัญ |
Aluminium Oxide, Thin Film, Plasma Treatment |
| ผู้เขียน |
|
| การประเมินบทความ |
มีผู้ประเมินอิสระ |
| สถานภาพการเผยแพร่ |
ตีพิมพ์แล้ว |
| วารสารมีการเผยแพร่ในระดับ |
นานาชาติ |
| citation |
มี |
| เป็นส่วนหนึ่งของวิทยานิพนธ์ |
เป็น |
| แนบไฟล์ |
|
| Citation |
0
|
|
|
ข้อมูลการเผยแพร่ผลงาน
การเผยแพร่ในรูปของบทความวารสารทางวิชาการ
English